中国科学院物理研究所近日宣布，该所在快速磁控溅射电镀研究领域取得了重大突破。
所研究人员表示，他们通过调控垂直场和水平场，成功实现了金属薄膜的三维空间控制和定向生长，填补了这一领域的国内空白，并在柔性显示、太阳能电池、导电膜材料、多化合物薄膜等领域有广泛应用前景。
中国科学院物理研究所近日宣布，该所在快速磁控溅射电镀研究领域取得了重大突破。
所研究人员表示，他们通过调控垂直场和水平场，成功实现了金属薄膜的三维空间控制和定向生长，填补了这一领域的国内空白，并在柔性显示、太阳能电池、导电膜材料、多化合物薄膜等领域有广泛应用前景。
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